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機(jī)械沖擊引起B(yǎng)GA脆斷

來源:CLTPHP     時(shí)間:2020/04/09

       BGA封裝中越來越多地使用無鉛焊料,該BGA封裝廣泛用于便攜式設(shè)備中,使它們?cè)谠馐軝C(jī)械沖擊時(shí),容易在焊球到焊盤界面的脆性斷裂失效。焊球和封裝基板鍵合焊盤之間的界面處的脆性斷裂被認(rèn)為是不可接受的。

 

       原則上,這種焊點(diǎn)可靠性以板級(jí)跌落測(cè)試為特征,但是這種測(cè)試有幾個(gè)缺點(diǎn)。每次跌落測(cè)試都會(huì)消耗數(shù)個(gè)封裝和數(shù)百個(gè)焊點(diǎn),從而產(chǎn)生可觀的費(fèi)用。另外,除非有高速實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)可用于監(jiān)視,否則焊點(diǎn)的裂縫在撞擊后可能會(huì)閉合,導(dǎo)致無法檢測(cè)到的故障。最后,數(shù)據(jù)分析很耗時(shí),增加了可觀的費(fèi)用。因此,必須找到在機(jī)械沖擊載荷條件下評(píng)估焊點(diǎn)完整性的替代方法。1個(gè) 將高速焊接測(cè)試與使用無鉛焊球和各種封裝基板表面光潔度的BGA封裝的板級(jí)跌落測(cè)試進(jìn)行比較,表明前者可能是可行的選擇。

 

       使用多種BGA封裝結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,該結(jié)構(gòu)使用焊料合金,表面光潔度,基材材料,焊球尺寸和封裝尺寸的各種組合。測(cè)試的典型器件為316 PBGA27 mm×27 mm)結(jié)構(gòu),使用Sn 4.0/ Ag 0.5/ CuSAC 405)焊球,并采用不同的基板表面光潔度制成,包括化學(xué)鍍鎳沉金(ENIG)和有機(jī)可焊性防腐劑(OSP)。

 

       316 PBGA樣品使用標(biāo)準(zhǔn)的0.76毫米直徑球體。封裝基板由厚度為0.36毫米的BT層壓板組成。阻焊墊由阻焊層限定,開口的直徑為0.635毫米。將焊球在熱風(fēng)對(duì)流回流爐中以150°C±2°C的預(yù)熱無鉛焊接曲線連接到基板上,峰值回流溫度為260°C

 

       將樣品分成幾組,在125°C0500小時(shí))下進(jìn)行熱老化,以促進(jìn)在封裝基板/焊點(diǎn)界面處形成金屬間化合物(IMC)。高速滾珠剪切測(cè)試的范圍從10 mm / s3,000 mm / s,高速滾珠拉伸測(cè)試的范圍從5 mm / s500 mm / s。使用了先進(jìn)的高速鍵合測(cè)試機(jī),配備了控制和分析軟件以及下一代力傳感器,它們能夠在球剪切和球拉力測(cè)試中評(píng)估焊球的斷裂能。

 

 

       跌落試驗(yàn)后的脆性斷裂表面(Sn4.0Ag0.5Cu + OSP,老化500小時(shí))。(1a)焊點(diǎn)的脆性斷裂面。(1b)(a)的匹配墊的脆性斷裂表面。(1c)在(a)中由矩形指示的位置的特寫視圖(1d)在(b)中由矩形指示的位置的特寫視圖

 

 

       研究的第二部分涉及板級(jí)跌落測(cè)試,記錄電阻,電路板應(yīng)變和夾具加速度的記錄。進(jìn)行了詳細(xì)的分析,以識(shí)別失效的焊點(diǎn)和相應(yīng)的失效模式。焊球剪切和拉拔試驗(yàn)的失效模式和加載速度與機(jī)械跌落試驗(yàn)進(jìn)行了對(duì)照,以進(jìn)行比較。同樣,在焊球剪切和拉力測(cè)試期間記錄的能量吸收值被認(rèn)為是解釋焊點(diǎn)失效模式的有效指標(biāo)。

 

       為了加速IMC的生長而進(jìn)行的熱老化是在125°C的烤箱中進(jìn)行的,持續(xù)時(shí)間為100、300500小時(shí)。熱老化后,將一些帶有焊球的PBGA樣品成型,橫截面和蝕刻,然后通過掃描電子顯微鏡(SEM)進(jìn)行檢查和分析。將類似的BGA樣品組裝在測(cè)試板上,并使用雙軌導(dǎo)向裝置將其掉落。如上所述,一些板級(jí)測(cè)試樣品也經(jīng)歷了熱老化。所有樣品都裝有菊花鏈,并接受實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)采集監(jiān)控。

 

       在剪切和拉力測(cè)試樣品的脆性斷裂失效的兩個(gè)互補(bǔ)表面上進(jìn)行的詳細(xì)SEM分析表明,其與板級(jí)跌落測(cè)試以及高速剪切和拉力測(cè)試期間生成的相似。此外,在發(fā)生脆性斷裂的各種粘結(jié)測(cè)試參數(shù)與通過板級(jí)跌落測(cè)試觀察到的跌落失敗次數(shù)之間具有很強(qiáng)的相關(guān)性。2

 

       從橫截面和斷裂表面的比較可以看出,跌落試驗(yàn)的脆性斷裂界面與高速球剪切試驗(yàn)和拉力試驗(yàn)顯示出驚人的相似性。結(jié)果表明,在高速粘結(jié)測(cè)試中獲得的脆性斷裂是板級(jí)跌落測(cè)試行為的有力指標(biāo)。當(dāng)前工作的一個(gè)顯著特征是努力,它導(dǎo)致將高速鍵合測(cè)試和板級(jí)跌落測(cè)試的脆性故障的物理特性直接進(jìn)行比較。3

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跌落測(cè)試

       進(jìn)行了板級(jí)跌落測(cè)試的測(cè)試板均采用非焊料掩模定義(NSMD)和焊料掩模定義(SMD)焊盤幾何形狀制造。在這兩種情況下,浸有焊料的焊盤直徑均為0.684 mm。盡管NSMD在實(shí)際生產(chǎn)的電路板上更為典型,但SMD的優(yōu)勢(shì)在于其相關(guān)性研究,即在封裝側(cè)更容易發(fā)生板級(jí)跌落測(cè)試斷裂位置。這很重要,因?yàn)楹噶锨虻募羟?/font>/拉力測(cè)試只能評(píng)估封裝側(cè)的斷裂,因?yàn)樵撛催B接至PCB。經(jīng)受跌落測(cè)試的焊點(diǎn)表面脆性斷裂的外觀 

 

       測(cè)試板組件從跌落到跌落的跌落測(cè)試結(jié)果的簡短摘要(每個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)8個(gè)組件)表明,與具有ENIG涂層的OSP封裝基板表面涂層相比,OSP封裝襯底表面涂層的熱老化會(huì)使其降解更快。

 

高速粘結(jié)測(cè)試

       深圳小銘打樣SMT貼片加工ENIG表面光潔度試樣的脆性斷裂失敗通常是在IMCNi層之間引起的。對(duì)于經(jīng)過兩次回流的無時(shí)效OSP試樣,在Cu 6 Sn 5 IMCCu層之間發(fā)現(xiàn)了脆性斷裂破壞。熱老化后OSP試樣的脆性斷裂破壞發(fā)生在Cu 6 Sn 5Cu 3 Sn IMC相之間。進(jìn)行高速剪切和拉力測(cè)試的焊點(diǎn)表面出現(xiàn)脆性斷裂,如圖2


       先前對(duì)高速焊球剪切和拉力測(cè)試的評(píng)估已經(jīng)觀察到脆性斷裂,其外觀與在板級(jí)跌落測(cè)試組件中觀察到的脆性斷裂模式相似,但是幾乎沒有確定的橫截面證據(jù)。這部分是由于此類研究的困難,無論是在獲取單個(gè)剪切或拉動(dòng)的球并將其與相應(yīng)的墊塊匹配方面,還是在隨后的橫截面工作方面。

 

直接相關(guān)

       除了觀察到的微觀結(jié)構(gòu)相關(guān)性外,還觀察到了用于高速粘合測(cè)試和板級(jí)跌落測(cè)試的測(cè)試參數(shù)之間的強(qiáng)相關(guān)性。與焊球剪切/拉力和跌落測(cè)試結(jié)果相關(guān)的數(shù)學(xué)關(guān)聯(lián)非常復(fù)雜。盡管如此,圖4以圖形方式總結(jié)了一種創(chuàng)新的方法。這些圖將剪切和拉動(dòng)焊錫球測(cè)試的脆性斷裂百分比與本研究中使用的特定封裝和跌落測(cè)試條件的跌落至失敗相關(guān)聯(lián)。簡而言之,通過繪制每個(gè)時(shí)間點(diǎn)的落差值與剪切或拉力測(cè)試的等效數(shù)據(jù)作圖,然后進(jìn)行冪律曲線擬合,即可得出該圖。每條曲線對(duì)應(yīng)一個(gè)焊球剪切或拉力測(cè)試速度。




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